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        半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水:NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水:洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
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    日期:2024-04-15
    半導體製程簡介 Author KOO Created Date 1/13/2005 9:15:14 AM ......
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    日期:2024-04-11
    半導體製程 Oxidization (氧化處理) Lithography (微影) Etching (蝕刻) Diffusion 、Ion Implantation (擴散離子植入) Deposition (沉積) Wafer Inspection (晶圓檢查) Dicing (晶圓切割) Mounting (黏晶) Bonding (銲線) Molding (封膠) Testing (測試) Wafer Cutting (晶圓切 ......
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    日期:2024-04-11
    半導體製程技術導論(修訂二版) ... 本書譯自HongXiao(蕭宏)原著「IntroductiontoSemiconductorManufacturingTechnology」(第二版),提供最新的半導體製程相關加工技術之介紹與各種加工原理之說明與應用,是半導體製程實務最為鉅細靡遺的著作。...
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    日期:2024-04-15
    半導體製程簡介 整整理理::張張奇奇龍龍博博士士 資資料料來來源源::台台 ... 1 資料來源:台灣應用材料(股)公司 整理:張奇龍 晶圓(Wafer) 晶圓(Wafer)的 ......
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    日期:2024-04-15
    Author: 何科儀, Title: 半導體製程簡介, Category: 研究生論文報告, Academic Year: 1012, Department: 電子工程系, ViewId: 164947 南台首頁 - 目的及使用規範 尚未登入 請由此登入 ......
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    日期:2024-04-10
    四.IC製程技術 資料來源 : 國科會國家毫微米元件實驗室 一.IC 應用簡介 IC 演進 個人電腦 通訊 自動化 消費性電子產品 國防與太空 IC 演進 半導體工業自1947年發明 ......
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    日期:2024-04-15
    半導體化學及清洗製程簡介 Æ化學及清洗程序的目的: 1. 矽晶片浸泡熱硫酸( H2SO4 ),可去除光阻劑或其他物質。2. 矽晶片浸泡王水( Aqua regia ),可溶解黃金及其它金 ......
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    日期:2024-04-13
    1 第一章、簡介 1-1 前言 近年來由於半導體製程技術不斷進步,使得元件尺寸已縮小到次微 米級甚至奈米等級,半導體製程中的微影技蝕刻術更是整個半導體製程 ......