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[技術專文] TFT-LCD光阻劑技術發展趨勢 - 《化合物半導體·光電技術》雜誌
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日期：2025-05-17
顏以明、張雍政／台灣安智電子材料股份有限公司 無論半導體製程或TFT-LCD製程，黃光微影(lithography)可以說最關鍵的技術，而微影製程中，又以光阻劑為其中最重要的化學材料。光阻劑配合塗佈與曝光機台，才可以將半導...看更多
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