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日期：2024-06-05
原子層化學氣相沉積 (Atomic Layer Chemical Vapor Deposition, ALCVD) 顧名思義，原子層化學氣相沉積 (ALCVD ) 是一種逐層沉積原子層級 厚度的薄膜沉積技術，ALCVD 利用氣體前驅物在基材表面進行選擇性化 學吸附反應時， 在達到單一飽和吸附層狀態後，即 ......看更多
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