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乾蝕刻製程技術
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日期：2025-04-26
反應式離子乾蝕刻 機台: ULVC 3000 乾蝕刻機 Gas system: SF6, CF4 製程: ‧ Silicon oxide etch ‧ Silicon nitride etch ‧ Polymer discumm...看更多
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