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日期：2025-06-27
"鄧宗禹、蔡明蒔/國家毫微米元件實驗室副研究員 超大型積體電路(VLSI，ULSI)發展之關鍵製程需求之一為超純水之潔淨效果。晶圓製程的每個步驟，包括蝕刻、氧化、 ......看更多

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