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使用最佳化C2F6(乙氟烷)做反應室清潔以減少成本及PFC(全氟化物)的排放量 - 《半導體科技．先進封裝與測試》雜誌
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日期：2025-12-17
Ai-Guo Jiang, Eng-Hwa Wong, Koh-Ping Chai, Fang-Hong Gn, Chartered Semiconductor Manufacturing, Singapore ... Ai-Guo Jiang, Eng-Hwa Wong, Koh-Ping Chai, Fang-Hong Gn, Chartered Semiconductor Manufacturing, Singapore Terry T. Lee, Gary Loh, DuPont Electron...看更多
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