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半導體巨擘重新點燃超紫外光微影技術新希望
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日期：2024-09-14
半導體產業巨擘英特爾(Intel)和台積電(TSMC)日前分別發佈兩項最新成就，為業界重新點燃起對於超紫外光(EUV)微影技術的希望。 事實上，半導體產業還有幾種可取代193nm浸潤式微影的替代方案，但超紫外光微影一直被視為最有前景...看更多
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