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半導體科技新聞 - 化學放大型光阻中PEB製程的化學作用與物理特性 - Semicondutor News, Science and Technology
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日期：2024-05-28
William Hinsberg, John Hoffnagle, Frances Houle,B> IBM Almaden ResearchCenter, San Jose, California 化學放大型(chemically amplified, CA)光阻之曝光後烘烤製程的測量與數學模型顯示：擴散作用並不重要，而所觀察到的曝光區域延展現象，主要是產生光 ......看更多
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