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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 銅導線低介電係數晶片銲線製程之動態分析與參數研究 - Semicondutor Magazine
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日期：2025-12-12
銅導線低介電係數晶片已成為高階積體電路設計的主流。本文使用顯式時間積分之有限元素分析探討銅導線低介電係數晶片在銲線製程中的暫態結構反應。此動態分析涵蓋完整銲線製程的撞擊與超音波振動兩階段。文中並以參數研究評估銲線製程中低介電 ......看更多
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