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台積電蔣尚義：14奈米面臨十字路口 EUV、雙重曝光2擇1
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日期：2024-05-31
台積電研發資深副總蔣尚義表示，2012年初要針對14奈米製程做評估，究竟是要採用極紫外光微影製程(EUV)還是沿用Immersion 193機台，採多重曝光(multiple patterning)方式進行，將會影響2015年量產進度，同時也呼籲設備廠要多加把勁...看更多
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