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先進半導體製程量測技術 提升晶片良率的幕後功臣 -- 工研院電子報第10005期
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日期:2025-05-26
在積體電路製程愈做愈小的趨勢下,層與層之間疊對是否精準,線寬尺寸誤差是否在 可容許的範圍內,都會影響積體電路的效能,所以必須有先進的量測技術加以驗證。顧逸霞帶領的工研院量測中心研發團隊,持續投注於先進量測技術的發展,協助 ......看更多