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微影技術中的抗反射塗佈 | AZ Electronic Materials
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日期：2025-04-30
BARC 專門針對曝光系統設計的折射率 ，可確保最小光反射率和最大的擺幅抑制率 以光阻相容溶劑系統製成的配方，可改良製程能力 、 均勻塗佈性絕佳並簡化洗邊劑 可廣泛運用在各光波波長的聚合物成分，...看更多
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