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濺鍍- 台灣Wiki
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日期：2025-05-30
磁控濺射：在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高（一個數量級），濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前最 ......看更多
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