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為IC設計減少天線效應 - 電子工程專輯.

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日期：2025-05-06
2014年2月10日 - 隨著技術的發展，晶片密度不斷增加，而閘級氧化層寬度不斷減少，超大規模積體電路(VLSI)中常見的多種效應變得原來越重要且難以控制，天線效應 ......看更多

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