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真空技術研究室 - 國研院儀科中心
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日期：2024-04-28
真空技術組簡介 佈 告 欄 研究成員 專利與著作 光學薄膜設備及製程技術 研究目的: 整合真空鍍膜與系統自動儀控, 以本中心多年光學薄膜技術能量, 發展光學薄膜製程與可橈性發光元件. 與光學監控系統搭配可程式化自動控制蒸鍍製程, 精確控制膜厚, 並 ......看更多
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