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半導體廠超純水簡介

半導體廠超純水簡介

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日期：2024-04-27
34 第 七 卷 第 四 期 毫 微 米 通 訊 二氧化矽 ( s i l i c a ) 、溶氧 (dissolved oxygen) 含 量分別小於 1µ g C / l 、0.5 µ g S i O 2 /l、與 1 µ g / l ，且細菌與重金屬含量分別小於 0.1 個 / l 、5 ng/l 。超純水【ultrapure water (UPW) or super...看更多

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