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台灣日鑛金屬股份有限公司NIKKO METALS TAIWAN CO.,LTD:半導體用濺鍍靶、DVD用濺鍍靶、磁性靶材、FPD用ITO濺鍍靶、高 ...
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日期：2024-05-25
濺鍍法原理 所謂濺鍍法是指半導體或FPD製造中,廣泛被使用之膜製造技術之一,由數十nm 到數μm, 為製作非常均等薄膜的方法。濺鍍法的原料中,金屬或陶瓷等的靶材常被使用。濺鍍法是使氬離子撞擊靶材,使原子(分子)釋放出而於基板上形成薄膜。...看更多
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