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電漿處理的鉭擴散阻障層在銅製程的應用 - 《半導體科技．先進封裝與測試》雜誌
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日期：2025-05-13
"吳文發、吳其昌 / 國家奈米元件實驗室 歐耿良、周長彬 / 交通大學機械工程研究所 本研究主要探討氮氣電漿處理的鉭(Ta)擴散 ......看更多
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