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36.以臭氧超純水清洗晶圓表面之簡介及應用

36.以臭氧超純水清洗晶圓表面之簡介及應用

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日期：2025-06-25
以臭氧超純水清洗晶圓表面之簡介及應用. 鄧宗禹、蔡明蒔. 毫微米元件實驗室. 一、前言. 超大型積體電路(VLSI, ULSI) 發展之關. 鍵製程需求之一為超純水之潔淨效果。...看更多

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