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PVD原理設備與製程
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日期：2025-05-30
1994年4月6日 ... 金屬工業研究發展中心. 12. 物理氣相蒸鍍設備之基本構造. ▫ 腔體. ▫ 閥門系統. ▫ 抽
氣系統. ▫ 基板. ▫ 靶源. ▫ 電源供應器. ▫ 真空計. ▫ 質量流量計....看更多
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