[技術專文] TFT-LCD光阻劑技術發展趨勢 - 《化合物半導體·光電技術》雜誌

[技術專文] TFT-LCD光阻劑技術發展趨勢 - 《化合物半導體·光電技術》雜誌

瀏覽:1400
日期:2024-05-20
顏以明、張雍政/台灣安智電子材料股份有限公司 無論半導體製程或TFT-LCD製程,黃光微影(lithography)可以說最關鍵的技術,而微影製程中,又以光阻劑為其中最重要的化學材料。光阻劑配合塗佈與曝光機台,才可以將半導...看更多