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日期:2024-04-26
在實際操作上為了提高清潔效果必需提高電漿系統的壓力。 圖2-2:大氣電漿示意 2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離,會產生大量的自由基粒子(如下式),這些 ......
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日期:2024-04-28
廣義而言,電漿是指一發光的、電中性(electrically neutral)的離子氣團,在這氣團中
... 電漿蝕刻主要應用於清除表面污染物,具有清潔之功效;並且造成基材表面氧化、 ......
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日期:2024-04-26
(Dry Etching)又稱為電漿蝕刻(Plasma Etching)且屬於非等向性蝕刻,所以是目前 ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同,但前者多感應線圈 ......
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日期:2024-04-30
化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing,簡稱CMP)製程憑著其全面平坦化之優勢而成為半導體製程中不可或缺的一環,由於在研磨過程中研磨漿消耗量非常之大,成為CMP製程中最主要之耗材。Laredo Associates機構曾於2000年針對CMP研磨漿全球市場作 ......
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日期:2024-04-26
2013年11月11日 - 噴塗機&電漿機簡介(宥鼎企業) Presentation Transcript. PROGRESSIVE SPRAY COATER 宥鼎企業有限公司電話:+886-4-7877669 ......
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日期:2024-04-23
本會緣於台灣光電與半導體設備產業協會(TOSEA),成立於2005年12月14日,並於2010年6月完成更名為台灣電子設備協會(TEEIA),為一非營利目的之產業同業組織。主要是推廣台灣電子、光電、半導體、顯示器、觸控面板、有機發光顯示器、太陽能電池、光電 ......
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日期:2024-04-25
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專營各種洗燙器材Focusing on every kind of washing and ironing facility-大慶洗衣器材有限公司--DACHING WASHING EQUIPMENT
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日期:2024-04-23
專營各種洗燙器材,如乾洗機,脫水機,洗衣機,烘乾機,燙台等. ... 1. 微電腦L C D變頻控制.用電省. 2. ......