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設備名稱Equipment 感應耦合離子電漿(Inductively-Coupled Plasma ...
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日期：2025-05-26
（Dry Etching）又稱為電漿蝕刻（Plasma Etching）且屬於非等向性蝕刻，所以是目前 ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同，但前者多感應線圈 ......看更多
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