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  感應耦合電漿質譜分析儀
  
  感應耦合電漿質譜分析儀 INDUCTIVELY COUPLED PLASMA-MASS SPECTROMETER 儀器中文名稱：感應耦合電漿質譜分析儀儀器英文名稱：INDUCTIVELY COUPLED PLASMA-MASS SPECTROMETER 儀器英文簡稱：ICP-MS 申請服務請從國科會 / 快速連結 / 貴重儀器管理系統，登入使用者帳號密碼。
  
  2024-04-23
  
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  感應耦合電漿原子發射光譜分析儀
  
  研究生於受訓並通過測驗後，與操作員預約時間即可操作儀器。樣品準備需知： ICP－AES最常用於液體樣品的分析。如所送樣品為固體時，委託分析人需另外付溶解或消化樣品之費用。儀器分析數據的取得是根據標準與樣品中目的元素信號強度的比較而來 ...
  
  2024-04-20
  
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Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學 I-Shou University

日期：2024-04-26

電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ......

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Chapter 7 電漿的基礎原理

日期：2024-04-27

2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ......

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電漿反應器與原理

日期：2024-04-23

本文先對電漿現象及原理作概述，再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛，如 ......

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博精儀器股份有限公司

日期：2024-04-24

原理說明: 感應耦合電漿放射光譜儀主體包括進樣系統、電漿、光學系統及偵測器四部份；其樣品溶液經由霧化器霧化後後，進入混合腔篩選後直上電漿，並在電漿中激發、放光，再利用光學系統分光，偵測器偵測強度得到訊號數值。...

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感應耦合電漿離子蝕刻技術 (I) Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (I)

日期：2024-04-27

感應耦合電漿離子蝕刻技術 (I) Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (I) 簡介本中心的感應耦合電漿離子蝕刻製程技術，主要是利用電漿來進行蝕刻，具有較佳的非等向性蝕刻。感應耦合電漿離子蝕刻 (ICP) 為目前矽深蝕刻最主要的技術之一，高深寬比蝕刻製 ......

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ICP之原理_百度文库

日期：2024-04-26

ICP-OES 基本原理一、前言年代感應耦合電漿(inductively coupled plasma,ICP)開始應用於元素在 1960 年代感應耦合電漿開始應用於元素放射光譜儀之偵測，並對許多元素之分析有良好之分析結果。近期伴隨光學系統設計之演進及固態偵測器如 CCD,CID 等之 ......

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感應耦合電漿光學發射光譜分析儀

日期：2024-04-26

感應耦合電漿放射光譜分析儀儀器英文名稱： INDUCTIVELY COUPLED PLASMA - OPTICAL EMISSION SPECTROMETER ... 上課時間課程內容 1hr 設備基本原理說明 1hr 分析方法之建立 1hr 儀器操作軟體功能介紹 2hr 實作練習與測驗欲申請自行操作 ......

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