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  Chapter 7 電漿的基礎原理
  
  2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ...
  
  2025-05-18
  
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- ebooks.lib.ntu.edu.tw
  
  電漿反應器與原理
  
  本文先對電漿現象及原理作概述，再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛，如 ...
  
  2025-05-13
  
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感應耦合型電漿的相關商品

感應耦合電漿質譜儀(ICP-MS) - Air Products 和ExxonMobil

日期：2025-05-18

感應耦合電漿質譜儀(ICP-MS) ... 氣相層析質譜儀(GC-MS), 氣相層析電子捕捉偵測器(GC-ECD), 液相層析質譜儀(LC-MS), 血液氣體分析儀, 超臨界流體層析(SFC) ......

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Inductively coupled plasma mass spectrometry - Wikipedia, the free ...

日期：2025-05-15

Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) is a type of mass spectrometry which is capable of detecting metals and several non-metals at ......

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設備名稱Equipment 感應耦合離子電漿(Inductively-Coupled Plasma ...

日期：2025-05-19

（Dry Etching）又稱為電漿蝕刻（Plasma Etching）且屬於非等向性蝕刻，所以是目前 ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同，但前者多感應線圈 ......

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感應耦合電漿(ICP) - Air Products 和ExxonMobil

日期：2025-05-17

在感應耦合電漿質譜儀(ICP-MS) 中，氬氣電漿所產生的離子會注入至MS 中，並基於離子的質量/電價比例將離子分開。是濃度低達一萬億分之幾金屬分析的理想選擇。...

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國立中山大學化學研究所碩士論文感應耦合電漿質譜儀於食品中多重 ...

日期：2025-05-15

碩士論文. Department of Chemistry. National Sun Yat-sen University. Master Thesis. 感應耦合電漿質譜儀於食品中多重微量元素. 與鉻、砷及硒物種型態分析之應用....

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中原大學應用物理研究所碩士學位論文感應耦合式電漿蝕刻技術對氮 ...

日期：2025-05-18

利用感應耦合式電漿技術對氮化鎵磊晶層進行蝕刻。改變不. 同氣體的混合比例、感應耦合式電漿功率和射頻功率等研究其對. 蝕刻速率的變化，並且藉由掃瞄式電子 ......

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感應耦合電漿質譜儀（ICP-MS）分析申請表

日期：2025-05-13

Agilent 7500C 型感應耦合電漿質譜儀（ICP-MS），附Autosampler。可與Agilent LC1100型HPLC併聯，附Quatpump、LC1100 autosampler、LC1100 degasser。...

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Inductively coupled plasma - Wikipedia, the free encyclopedia

日期：2025-05-12

An inductively coupled plasma (ICP) is a type of plasma source in which the energy is supplied by electric currents which are produced by electromagnetic ......

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