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  想知道stepper曝光機原理的網友問了有哪些問題嗎？關於,進入半導體產業的職前準備是什麼 20點..急,關於操作CMP設備的環境的問題都歡迎到這裡找答案。
  
  2025-12-15
  
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  TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking步進式曝光機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value Linking
  
  您的所在位置：穎強科技 / 產品與服務 / 黃光微影製程 / 步進式曝光機廠牌：大日本科研 DNK Stepper具備高精準度對位與模數對應系統，可轉換光學參數，依照曝光對象來轉換投影鏡片的數值孔徑(NA)，照明光學系的光圈(8 Sigma)與曝光波長 ...
  
  2025-12-17
  
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360°科技：步進曝光機 - DIGITIMES

日期：2025-12-18

半導體步進曝光機(stepper)是目前半導體製程當中最前段也是最關鍵的製程，由於IC設計客戶必須將其設計圖(layout)進行曝光顯影，因此透過步進曝光機微顯影掃描設備的曝光照射在光罩(mask)上，而光罩變成為之後晶圓加工的參考...

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I-line光學步進曝光機

日期：2025-12-16

中文名稱 I-line光學步進曝光機英文名稱 I-line Stepper 儀器廠牌型號荷蘭 ASML PAS 5000/50 購置年限 2006年 ITRI 捐贈 (1990年製) 放置地點固態電子系統大樓 1樓10級R139 (TEL:55616) 機台狀況重要規格 1.Lens resolution 0.5micro i-line (365nm)...

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步進曝光機(Stepper) - 全文檢索 - DIGITIMES

日期：2025-12-19

您正使用「全文搜尋」，檢索關鍵字:步進曝光機(Stepper) 檢索日期: 2013/1/31~2014/1/31 根據目前結果做進一步檢索全網科技國際財經 Research 圖表短訊每頁筆商情檢索結果共計2 則報導 ...更多 1. 優志旺Packaging Solution「UX Series ......

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儀器設備

日期：2025-12-20

I-line光學步進曝光機(I-line Stepper) 其它 1 光阻塗佈機 (Photo Resist Spinner) 2 真空烤箱 (Vacuum Oven)(甲、乙兩台) 3 光學顯微鏡(Optical Microscope) 4 紫外光臭氧去光阻機(UV Ozone Dry Stripper ......

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Overview of Photolithography - 週日閱讀科學大師

日期：2025-12-15

步進機(Stepper): 由投影式演進的重複且步進(Step and Repeat) ，光罩圖案比例比要轉移圖案大，目前較常見為4:1或5:1，Stepper優點為所 ......

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Nikon G-line & I-line Stepper with 2 inch loader P.1 General ? This system exposes a 5 : 1 reduction of a reticle pattern on to a wafer through step-and –repeat operations. It automatically performs reticle positioning and exposure focusing. ? The system...

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Canon FPA-3000i5+ Stepper - 國研院奈米元件實驗室

日期：2025-12-13

Specifications FPA-3000i5+ i-line (365nm) Stepper Resolution 0.35 micron (dense lines) NA 0.63 – 0.45 ... 現行微影製程所使用的曝光機台主要是由光學投影系統及X-Y曝光平台所構成的，光學投影系統決定了曝光機台對阻劑層的解析極限，而X-Y平台則影響機台 ......

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