search:浸潤式曝光機相關網頁資料

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        半導體產業在50奈米製程以下發展後,浸潤式微顯影(Immersion Scanner)機器設備成為必須的機器設備,但上一波金融風暴來襲,設備商因為撙節成本、裁員等影響,縮減投資規格,使得2009年初半導體景氣一下子全面復甦後,晶圓代
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        請問各位: 因之前新聞報導台積電將在未來45奈米製程將採用浸潤式曝光顯影技術,而所謂的浸潤式曝光顯影技術與傳統的光學曝光顯影技術有何不同???另其優缺點為何???(請勿 ...
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    日期:2024-04-19
    你有任何關於浸潤式曝光機,最近來提供技術的DRAM廠,浸潤式曝光機 波長,浸潤式曝光機原理的相關資料都在這裡。 ... 台積電(TSMC)近日表示,該公司浸潤式 ... 指出透過該公司專有的技術,浸潤式曝光顯影成功產出多批測試晶片,單片晶片上的晶片缺陷最低 ......
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    日期:2024-04-25
    你有任何關於浸潤式曝光機,最近來提供技術的DRAM廠,浸潤式曝光機 波長,浸潤式曝光機原理的問題都歡迎到這裡找答案。...
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    日期:2024-04-22
    台積電(TSMC)近日表示,該公司浸潤式曝光顯影技術所產出的測試晶片,已相當符合量產所要求的參數標準,並計劃將於45 ... 在曝光機台的鏡頭與晶圓片間加入水作為介質,以得到更高解析度的光源,而製造面積更小、密度更高的元件。...
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    日期:2024-04-21
    台積公司表示浸潤式 曝光顯影技術不久後可邁入量產 台積公司專有的浸潤式曝光顯影技術產出幾乎零缺陷密度的晶片 ... 浸潤式曝光顯影技術係使用水或類似的清澈液體當作成像的介質。在曝光機 ......
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    日期:2024-04-20
    Michael E. Clarke, Annie Xia, Joseph Smith, Bipin Parekh, Entegris, Inc. 浸潤式顯影技術(LIL)最近已經躍進到所有微影討論的中心。由於在2004~2006年期間交付了一些有生產價值的LIL機臺機組,LIL現在已經不再是一種新奇的產品,而是一項主流技術。 半導體工業藉 ......
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    日期:2024-04-19
    如今,浸潤式顯影不但是英特爾(Intel)等半導體龍頭、設備商所認定的跨入45奈米製程之後的解決方案,也已正式納入國際半導體藍圖架構成為主流。回顧過去林本堅提出的「一滴水」理論,過了5年,台積電終於將在2007 ......
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    日期:2024-04-24
    在力晶的兩年內主導32奈米快閃記憶體模組技術開發,並完成全台灣第一台尼康浸潤式掃瞄曝光機之安裝,且建立50 奈米快閃記憶體浸潤模組標準生產製程。林博士曾獲得許多獎項,包括聯華電子百大專利發明人及年度十大專利發明人,且曾多次在 ......
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    日期:2024-04-18
    針對華亞科募資600億元資金的應用,他說,除支付十台浸潤式曝光機外,還投入相當大筆的金額修改導入50 奈米堆疊式製程的生產設備。華亞科首季營收,未如同業有大幅的成長,就是花相當大的心血在轉換堆疊式製程。 目前相關轉換作業已近尾聲 ......