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TSMC浸潤式曝光顯影技術即將邁入量產
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日期：2025-10-09
台積電(TSMC)近日表示，該公司浸潤式曝光顯影技術所產出的測試晶片，已相當符合量產所要求的參數標準，並計劃將於45 ... 在曝光機台的鏡頭與晶圓片間加入水作為介質，以得到更高解析度的光源，而製造面積更小、密度更高的元件。...看更多
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