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乾式蝕刻於矽微加工及微機電方面之應用
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日期：2025-10-22
於濺擊蝕刻與電漿蝕刻之間的乾蝕刻 技術，藉由結合物理與化學兩種蝕刻技術，得以兼 具兩種技術的優點。電漿蝕刻的蝕刻率主要由三項因子決 定：中性原子 ( n e u t r al atom) 和自由基 ( f re e ......看更多
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