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光電產業設備技術專輯 - yalu

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日期：2025-06-21
研究，探討Ar 電漿與SiH4、H2 工作氣體對於製程腔 體內部流場及微晶矽薄膜沉積特性的影響。模擬部 ... 濃度分佈之影響。一般 ......看更多

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