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利用間歇光輔助的濕蝕刻方式發展氮化鎵的奈米級蝕刻技術__國立清華大學博碩士論文全文影像系統
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日期：2025-05-24
光電化學蝕刻是一種利用光輔助的濕蝕刻方式，具有低蝕刻缺陷和高蝕刻速率的特性，而廣泛應用在純態和N型氮化鎵蝕刻上。然而，傳統光電化學蝕刻所發生的側向蝕刻深度分佈的問題，透過以過硫酸鉀作為氧化劑來取代光電化學蝕刻中的電極所發展 ......看更多
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