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化學氣相沉積- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
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日期：2025-06-10
行動版 - 典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應 ... 電漿增強化學氣相沉積（Plasma-Enhanced CVD, PECVD）：利用電漿增加前驅物的反應速率。...看更多
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