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半導體晶圓廠的清潔劑
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日期：2024-05-07
10 科學做見證．為工業 三、SPM工作原理 1. SPM之化學特性混酸工作原理 Piranha Clean（SPM）H 2SO 4/H 2O 2主要應 用於有機物之去除，利用H 2SO 4 之強氧化性來 破壞有機物中之碳氫鍵結。一般是以H 2SO 4（98 wt%）：H 2O 2（31 wt%）= 4：1 之體積 ......看更多
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