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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 使得技術具備解決複雜業界挑戰的能力 - Semicondutor Magazine

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日期：2025-11-06
Kevin Monahan / KLA-Tencor Corporation 由於Super-NA浸潤式微影技術 (immersion lithography)驅使CD的尺寸縮小，因而使得45奈米及以下的良率與製程控制範圍也將變得更小。如果實施雙重圖樣以及其它設定分裂(pitch-splitting) 方法的話，這種情況特別有可能成 ......看更多

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