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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 光學線寬量測工具之價值新標竿 - Semicondutor Magazine
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日期：2025-11-07
利用不同的量測工具，分析步進掃瞄系統的線寬一致性晶圓(critical-dimension uniformity wafer)，其結果顯示有一些隨機性的線寬(CD)變異性無法歸因於曝光工具或量測工具之可重複性(repeatability)，因此我們研發出一種測試分析法，將這個隨機性變異與測試結果 ......看更多
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