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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 淺溝渠隔離（STI）的應力及窄通道效應模型 - Semicondutor Magazine
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日期：2024-06-03
3> 淺溝渠隔離(Shallow trench isolation, STI)是CMOS技術中的一個關鍵製程，用來隔離電晶體間電子的導通。儘管STI只是用作被動絕緣，當元件尺寸縮小時，其對電晶體特性的影響變成不可忽略。在文章中提出STI影響電晶體表現的兩個例子。首先探討STI對窄 ......看更多
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