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可鍍製G5.5大面積面板製程之PECVD - 亞樹科技股份有限公司
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日期：2025-05-24
產品介紹. 產品介紹. 電漿輔助化學氣相沉積設備(PECVD)中射頻技術為產生電漿源
之關鍵，然而，因應產業之趨勢，需往大尺寸設備發展。亞樹自行 ... 68 MHz電漿源，
生產5.5代面板的矽薄膜太陽能電池製程上得到驗證，其鍍膜均勻性可達到...看更多
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