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國立台北科技大學奈米光電磁材料技術研發中心

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日期：2025-10-21
射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的 ... (1)真空系統: 腔體內徑為40 cm，高度為40 cm，基板的支撐座之直徑為76 mm； ......看更多

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