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奈米結構原子級薄膜製程技術—原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD) 系統研發成功
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日期：2025-05-30
奈米結構原子級薄膜製程技術 原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD) 系統研發成功 2007 年 12 月 19 日新聞資料 ... 隨著半導體元件微小化，現行的製程技術與材料皆面臨極大的挑戰，例如 2006 年 International Technology Roadmap for Semiconductors ITRS ......看更多
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