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薄膜厚度/晶圓曲度控制有解 矽基氮化鎵LED商用可期 - 學技術 - 新電子科技雜誌
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日期:2024-04-28
為有效消除氮化鎵薄膜與矽基板之間的晶格常數與熱膨脹係數上的差異,目前在學術論文上最常發表的就是使用氮化鋁鎵系列的緩衝層,其原因為透過調整氮化鋁鎵薄膜裡的鋁與鎵元素比例,進一步改變與矽基板熱膨脹係數的差異。...看更多