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為IC設計減少天線效應-《電子工程專輯》數位版2014年2月號
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日期：2025-05-06
天線效應或電漿導致閘氧損害是指在MOS晶片製程中，可能發生潛在影響產品良率與可靠性的效應。目前，微影製程採用'電漿蝕刻'法(或'乾式蝕刻')製造晶片。電漿是 ......看更多
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