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第二章 X光單晶繞射分析及 X 光粉末繞射分析 含Rietveld refinement)
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日期：2025-05-24
相對位置模型。而粉末繞射所得繞射數據則少得多，僅為一維空間之繞射光譜，處理起來較單晶數據複 雜，但因單晶樣品不易合成或取得，因此粉末繞射仍 常被使用於材料之晶體構造解析之研究上。 3 儀器介紹...看更多
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