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絕緣層上矽分析及應用 - 明新科技大學右任紀念圖書館
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日期：2025-05-21
絕緣層上矽分析及應用 明新學報32 期, Volume 32, Minghsin Journal 105 氧化，產生一層氧化層，控制氧化環境溫度使氧化層和矽層介面為低缺陷低雜質。當兩個晶圓都處理過 後，利用凡得爾力（Vender Walls force ）的作用將元件晶圓和操作晶圓進行鏈 ......看更多
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