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電漿源原理與應用之介紹
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日期：2025-05-02
電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。 ....
Catalytic CVD主要是利用含碳的氣體在催化金屬表面熱裂解而成長CNT/CNF，而以
電漿之輔助 ... 外，我們亦利用臨場(in situ) 電漿前處理及後處理的方式，來改善其場
發射特性。 ...... Mingdong Li etc., “Study on Arc Movement in the Hollow Electrode
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