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電漿輔助化學氣相沉積製程之模型分析與批次最佳化控制__臺灣博 ...
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日期：2025-10-04
沉積厚度與不均勻度控制的理想將可改善PECVD製程之良率。 ... 【11】彭元宗，
PECVD電漿Arcing之改善研究，國立交通大學精密與自動化工程在職班碩士論文，
2005 ......看更多
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