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4-04 論文封面(樣式) - 中文查詢介面 - 國立中央大學
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日期：2025-06-02
奈米級圖案轉換技術由上而下的圖案成像技術方式如一般的光學. 微影技術、或是下世代微 ..... 旋轉塗佈參數為初轉1000rpm/20sec、末轉6000rpm/40sec，塗佈. 完後置於加熱板以110℃ ...... 單一晶片中完成，達到. 少量、省時、多樣化與自動化之目的 。...看更多
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