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Analysis of SiO2 Thin Films Deposited by PECVD Using an ...
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日期：2025-05-04
Brazilian Journal of Physics, vol. 31, no. 2, June, 2001. 299. Analysis of SiO2 Thin Films Deposited by PECVD. Using an Oxygen-TEOS-Argon Mixture. Carlos E....看更多
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