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Plasma-Therm: PECVD
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日期：2026-04-21
Plasma-Therm, founded in 1974, designs and manufactures plasma etch and deposition systems, including ICP, RIE, DSE, PECVD, and HDPCVD, that are used in R&D and production settings for die singulation, solid state lighting, wireless, MEMS/NEMS, data ......看更多
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