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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 針對22奈米及以下製程世代所需之超紫外線光源研發 - Semicondutor Magazine
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日期：2024-05-03
在力晶的兩年內主導32奈米快閃記憶體模組技術開發，並完成全台灣第一台尼康浸潤式掃瞄曝光機之安裝，且建立50 奈米快閃記憶體浸潤模組標準生產製程。林博士曾獲得許多獎項，包括聯華電子百大專利發明人及年度十大專利發明人，且曾多次在 ......看更多
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