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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 濕式清洗檯操作危害及安全防範 - Semicondutor Magazine
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日期：2024-05-18
林義凱b> / 台灣積體電路製造股份有限公司三廠工安環保部 劉美娟b> / 工研院材料研究所副工程師 濕式蝕刻是最早被使用的蝕刻技術，它是利用薄膜與特定溶液間所進行的化學反應，來去除未被光阻覆蓋之薄膜。而其濕式清洗檯(Wet bench)機台使用之高溫 ......看更多
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